Цахиурын нитридын сийлбэрт хүхрийн гексафторидын үүрэг

Хүхрийн гексафторид нь маш сайн тусгаарлагч шинж чанартай хий бөгөөд ихэвчлэн өндөр хүчдэлийн нуман унтраах болон трансформатор, өндөр хүчдэлийн цахилгаан дамжуулах шугам, трансформатор гэх мэтт ашиглагддаг. Гэсэн хэдий ч эдгээр функцээс гадна хүхрийн гексафторидыг электрон нунтаглагч болгон ашиглаж болно. .Электрон ангиллын өндөр цэвэршилттэй хүхрийн гексафторид нь микроэлектроникийн технологийн салбарт өргөн хэрэглэгддэг хамгийн тохиромжтой электрон нунтаглагч юм.Өнөөдөр Niu Ruide тусгай хийн редактор Yueyue цахиурын нитридын сийлбэрт хүхрийн гексафторидын хэрэглээ болон өөр өөр параметрүүдийн нөлөөг танилцуулах болно.

Бид сийвэнгийн хүчийг өөрчлөх, SF6/He-ийн хийн харьцаа, катион хийн O2 нэмэх, TFT-ийн SiNx элементийн хамгаалалтын давхаргын сийлбэрийн хурдад үзүүлэх нөлөөлөл, плазмын цацрагийг ашиглах зэрэг SF6 плазмын SiNx үйл явцын талаар ярилцаж байна. спектрометр нь SF6/He, SF6/He/O2 сийвэн дэх төрөл бүрийн концентрацийн өөрчлөлт болон SF6 диссоциацийн хурдад дүн шинжилгээ хийж, SiNx сийлбэрийн хурд болон плазмын зүйлийн концентрацийн өөрчлөлтийн хоорондын хамаарлыг судалдаг.

Судалгаанаас үзэхэд плазмын хүч нэмэгдэхэд сийлбэрийн хурд нэмэгддэг;Хэрэв сийвэн дэх SF6-ийн урсгалын хурд нэмэгдвэл F атомын концентраци нэмэгдэж, сийлбэрийн хурдтай эерэг хамааралтай байна.Нэмж дурдахад, тогтмол нийт урсгалын хурдаар катион хийн O2 нэмсний дараа сийлбэрийн хурдыг нэмэгдүүлэх нөлөө үзүүлэх боловч өөр өөр O2/SF6 урсгалын харьцаатай үед өөр өөр урвалын механизмууд байх бөгөөд эдгээрийг гурван хэсэгт хувааж болно. : (1 ) O2/SF6 урсгалын харьцаа маш бага, O2 нь SF6-г задлахад тусалдаг ба энэ үеийн сийлбэрийн хурд нь O2 нэмээгүй үеийнхээс их байна.(2) O2/SF6 урсгалын харьцаа 1-д ойртох интервалд 0.2-оос их байх үед энэ үед SF6 их хэмжээгээр задарч F атом үүсгэх тул сийлбэрийн хурд хамгийн өндөр байна;гэхдээ үүнтэй зэрэгцэн сийвэн дэх O атомууд нэмэгдэж байгаа бөгөөд SiNx хальстай гадаргуутай SiOx эсвэл SiNxO(yx) үүсгэхэд хялбар байдаг ба O атомууд ихсэх тусам F атомууд илүү хэцүү байх болно. сийлбэрлэх урвал.Иймд O2/SF6 харьцаа 1-тэй ойролцоо байвал сийлбэрийн хурд удааширч эхэлдэг. (3) O2/SF6 харьцаа 1-ээс их бол сийлбэрийн хурд буурдаг.O2 их хэмжээгээр нэмэгддэг тул задарсан F атомууд нь O2-тэй мөргөлдөж, OF үүсгэдэг бөгөөд энэ нь F атомын концентрацийг бууруулж, сийлбэрийн хурдыг бууруулдаг.Эндээс харахад O2 нэмэхэд O2/SF6-ийн урсгалын харьцаа 0.2-0.8 хооронд байх ба сийлбэрийн хамгийн сайн хурдыг авч болно.